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在半導體蝕刻工序過程中需要用到氫氟酸、氟化銨，這導致出水氟化物超出國家或地區(qū)氟化物限值。很多企業(yè)采用石灰沉淀法來去除氟離子，此法存在一定的缺陷：除氟存在極限值，即氟離子降低至一定程度時，無法繼續(xù)降低。那么氟離子超標該如何治理呢？有沒有好的除氟試劑？

我司通過創(chuàng)新研究，針對氟離子去除研發(fā)出了一款價格低廉，效果優(yōu)良的RECY-DAF-01型除氟劑，為企業(yè)解決氟離子超標的問題。

除氟劑（RECY-DAF-01型）是一種固體復合化合物，它能與廢水中的氟離子進行絡合反應形成不溶性沉淀物，具有絡合能力強、反應速度快、添加量少、不對水體造成二次污染的特點，出水氟化物濃度低于1.0mg/L。

某企業(yè)排放氟化氫銨廢水，含高濃度氟化物，濃度為6000-7000 mg/L，設置兩級沉淀，按以下方法投加RECY-DAF-01型除氟劑：

一級沉淀后，可將氟化物降至25mg/L以下，二級沉淀后，可將氟化物降至11mg/L以下。RECY-DAF-01型除氟劑可高效、穩(wěn)定除氟，配合相應工藝，能將含氟廢水處理達標。